Produkte

BoronHub Solutions Limited | BoronVertex.com — Kristallines 6N-Bor für die Halbleiterdotierung, Komplettlösung für das gesamte Spektrum an fortschrittlichen borbasierten Materialien.
  • Elementares Bor

    Elementares Bor – Kristallin & AmorphElementares Bor bildet die Grundlage des Portfolios von BoronHub und wird in hochreines kristallines Bor und amorphes Bor für unterschiedliche industrielle Anwendungen unterteilt. Hochreines kristallines Bor (4N–6N)Es besitzt eine β-rhomboedrische Struktur und ist als graubraunes Pulver (>500 μm) oder Granulat (1–10 mm) mit einer Reinheit von 99,99 % (4N) bis 99,9999 % (6N) erhältlich. Es zeichnet sich durch außergewöhnliche chemische Stabilität, eine Mohs-Härte von 9,3, einen Schmelzpunkt von 2076 °C und Halbleitereigenschaften aus. Es findet Anwendung beim Dotieren von Siliziumwafern, der Synthese superharter Materialien (z. B. CBN), in Legierungen für die Luft- und Raumfahrt sowie in Hochenergiebrennstoffen. Amorphes Bor (2N–3N)Es besitzt eine α-tetragonale Nahordnung und ist ein dunkelbraunes Pulver (>500 μm). Es ist chemisch reaktiv: Die Oxidation beginnt bei 300 °C, die Zündung bei 700 °C, und es löst sich in konzentrierten Laugen unter Wasserstofffreisetzung. Anwendungsgebiete sind Raketentreibstoffe, Airbag-Zünder, legierte Stähle, Borfasern sowie die Synthese von Borhalogeniden und Seltenerdboriden (z. B. LaB₆). AnpassungBoronHub bietet volle Flexibilität hinsichtlich Reinheit (2N–6N), Partikelgröße (Submikron bis 10 mm) und Kristallform (α/β). Die Produkte werden vakuumversiegelt in Aluminiumfolienbeuteln oder PTFE-Flaschen unter Schutzgasatmosphäre verpackt und sind 12 Monate haltbar. Kundenspezifische Spezifikationen sind für die Halbleiter-, Nuklear-, Luft- und Raumfahrt-, Metallurgie- und Feinchemieindustrie erhältlich.
    Mehr entdecken
  • Borisotope

    Bor besitzt zwei stabile Isotope. ¹⁰B und ¹¹B weisen natürliche Häufigkeiten von etwa 19,78 % bzw. 80,22 % auf. ¹⁰B besitzt einen extrem hohen Wirkungsquerschnitt für den Einfang thermischer Neutronen und eignet sich daher hervorragend als Neutronenabsorber für Anwendungen in der Kernenergie, beispielsweise zur Reaktorleistungsregelung und in Notabschaltsystemen. Im Gegensatz dazu absorbiert ¹¹B kaum Neutronen und dient als Kernmaterial für die Ionenimplantation in Halbleiter. BoronHub-Angebote Ein umfassendes Portfolio an hochkonzentrierten Borisotopen mit individuell anpassbaren Anreicherungsgraden gemäß Kundenspezifikationen. Isotopisches ¹⁰B liegt als kubische β-Kristalle mit hoher Reinheit und Anreicherung vor und bildet leicht Legierungen mit Metallen. Angereicherte Borsäure-10 weist eine Reinheit von über 99,95 Gew.-% auf und wird häufig als lösliches chemisches Shim in Druckwasserreaktoren (DWR) eingesetzt. Angereichertes Bortrifluorid-11 besitzt eine Reinheit von über 99,999 % und dient als wichtiges p-Dotiermittel für die Ionenimplantation bei der Herstellung von Halbleiterchips und Displaypanels. Alle Produkte sind verpackt Die Produkte werden in PTFE-Flaschen mit inertem Schutzgas abgefüllt. Reinheit, Isotopenhäufigkeit und Verpackungsspezifikationen können individuell angepasst werden und unterstützen zukunftsweisende Branchen wie Kernenergie, Halbleiter, Biomedizin und Luft- und Raumfahrt.
    Mehr entdecken
  • Bornitrid

    Einführung in die Produktklassifizierung von BornitridBornitrid (BN) ist ein hochwertiger, funktionaler Werkstoff auf Borbasis mit einem äußerst vielseitigen Eigenschaftsspektrum. BoronHub bietet zwei Kernproduktlinien an: hexagonales Bornitrid (h-BN) und kubisches Bornitrid (CBN). Diese Produkte werden in zahlreichen High-End-Branchen wie Schmierung, Wärmemanagement und hochpräziser Bearbeitung eingesetzt. Hexagonales Bornitrid (h-BN)Das auch als „weißes Graphit“ bekannte h-BN ist ein reinweißes Pulver, das hervorragende Hochtemperaturschmierfähigkeit, hohe Wärmeleitfähigkeit, überlegene elektrische Isolation, chemische Inertheit und starke Neutronenabsorption vereint. BoronHub liefert kundenspezifisches, flockiges h-BN-Pulver mit hoher Reinheit und Kristallinität, dessen Partikelgröße auf unter 1 μm reduziert werden kann. Typische Anwendungsgebiete sind Hochtemperatur-Trennmittel, thermische Schnittstellenmaterialien für Chips, wellentransparente Verbundwerkstoffe für die Luft- und Raumfahrt, Neutronenabschirmungsmaterialien für Kernkraftwerke und funktionelle Füllstoffe für Luxuskosmetik. Kubisches Bornitrid (CBN)CBN ist ein extrem hartes Material, dessen Härte nur von Diamant übertroffen wird. Seine Verschleißfestigkeit übertrifft die herkömmlicher Schleifmittel um mehr als das Vierfache. Hinzu kommen seine hervorragende thermische Stabilität und chemische Inertheit, wodurch es sich ideal für das Hochpräzisionsschleifen von Eisenmetallen und deren Legierungen eignet. BoronHub bietet einkristallines CBN (HBCBN-Serie, Ti-Härteindex: 63–76) und CBN-Mikropulver (12 Sorten mit D50-Korngrößen von 1,25 μm bis 32 μm) an, das mit allen gängigen Bindemittelsystemen kompatibel ist. Es findet breite Anwendung in CBN-Schleifscheiben, PCBN-Schneidwerkzeugen, der Präzisionsbearbeitung von Automobilkomponenten und der Wärmeableitung in der Elektronikfertigung. Dank hoher Reinheit, außergewöhnlicher thermischer Stabilität, einem breiten Spektrum an Partikelgrößen und flexiblen Anpassungsmöglichkeiten bietet BoronHub umfassende Bornitrid-Materiallösungen für Kunden weltweit. 
    Mehr entdecken
  • Borcarbid

    Borcarbid, auch „schwarzer Diamant“ genannt, zählt zu den drei härtesten bekannten Materialien und ist nach Diamant und kubischem Bornitrid (CBN) das zweithärteste. Es zeichnet sich durch eine extrem niedrige Dichte von 2,52 g/cm³, einen hohen Schmelzpunkt von 2450 °C und eine hervorragende chemische Stabilität aus; es bleibt gegenüber starken Säuren und Laugen inert. Der entscheidende Vorteil von Borcarbid liegt in seiner außergewöhnlichen Neutronenabsorptionsfähigkeit. Bor-Elemente besitzen einen großen Neutroneneinfangquerschnitt, der eine effiziente Absorption thermischer Neutronen ermöglicht, ohne langlebige Radionuklide zu erzeugen. Diese Eigenschaft macht Borcarbid zu einem unverzichtbaren Werkstoff für Steuerstäbe in Kernreaktoren, Strahlenschutz und die Lagerung abgebrannter Brennelemente. Borcarbid wird aufgrund seines geringen Gewichts und seiner hohen Festigkeit häufig in Schutzanwendungen wie ballistischer Schutzausrüstung und individuellen Schutzpanzereinsätzen eingesetzt. In der Industrie dient es als superhartes Schleifmittel zum Schleifen und Polieren von Hartmetallen und Edelsteinen sowie zur Herstellung von Präzisionsbauteilen wie verschleißfesten Düsen und Dichtungsringen. BoronHub liefert hochreines Borcarbidpulver mit anpassbaren Partikelgrößen, um den vielfältigen Anwendungsanforderungen in der Nuklearindustrie, im High-End-Ballistikschutz, in der Präzisionsbearbeitung und bei feuerfesten Materialien gerecht zu werden. 
    Mehr entdecken
  • Seltene Erden Hexaboride

    Seltenerdhexaboride (allgemeine Formel: REB₆) Es handelt sich um eine Familie funktionaler Keramikwerkstoffe mit kubischer Kristallstruktur. Aufgrund ihrer niedrigen Austrittsarbeit, hohen Elektronenemissionsfähigkeit, ihres hohen Schmelzpunkts und ihrer ausgezeichneten thermischen Stabilität dienen sie als Kernmaterialien für fortschrittliche Anwendungen im Bereich der Elektronenemission. BoronHub bietet zwei Flaggschiffprodukte an: Lanthanhexaborid (LaB₆) und Cerhexaborid (CeB₆), beide mit einer Reinheit von über 99,9 %. Es sind verschiedene Darreichungsformen erhältlich, darunter Nanopulver und Einkristallgranulate. Lanthanhexaborid (LaB₆)LaB₆ besitzt eine Austrittsarbeit von etwa 2,5–2,7 eV und liefert dadurch eine hohe Emissionshelligkeit und einen stabilen Strahlstrom. Es ist das bevorzugte Thermokathodenmaterial für Rasterelektronenmikroskope (REM), Transmissionselektronenmikroskope (TEM), Elektronenstrahllithographiesysteme und Teilchenbeschleuniger. Einkristalline LaB₆-Kathoden erreichen eine mehr als zehnmal höhere Helligkeit als Wolframkathoden und finden breite Anwendung in der Elektronenoptik, der Luft- und Raumfahrt sowie in der Spitzenforschung. Ceriumhexaborid (CeB₆)CeB₆ weist eine überlegene Beständigkeit gegenüber Kohlenstoffverunreinigungen auf und hat eine 50 % längere Lebensdauer als LaB₆. Es zeichnet sich durch eine geringere Verdampfungsrate bei 1700 K aus und eignet sich daher für langlebige und hochstabile Anwendungen wie Mikrowellenröhren, Elektronenstrahlschweißanlagen, Röntgenröhren und Freie-Elektronen-Laser. BoronHub liefert hochreines LaB₆ und CeB₆ mit anpassbaren Partikelgrößen und unterstützt damit umfassend Branchen wie Elektronenoptik, Halbleiterausrüstung, Luft- und Raumfahrt sowie Spitzenforschung. 
    Mehr entdecken
  • Übergangsmetallboride

    Übergangsmetallboride Übergangsmetallbromide (TMBs) sind intermetallische Verbindungen, die durch die Bindung von Boratomen mit Übergangsmetallen wie Magnesium, Tantal, Niob und Chrom entstehen. Sie vereinen die außergewöhnliche Härte und den hohen Schmelzpunkt von Keramiken mit der hervorragenden elektrischen und thermischen Leitfähigkeit von Metallen. Diese Werkstoffe zeichnen sich im Allgemeinen durch extrem hohe Schmelzpunkte (teilweise über 3000 °C), extreme Härte, hervorragende Verschleiß- und Korrosionsbeständigkeit sowie chemische Stabilität bei hohen Temperaturen aus. Sie sind von entscheidender strategischer Bedeutung für Anwendungen in der Supraleitungstechnologie, in Ultrahochtemperaturkeramiken (UHTCs), im Wärmeschutz für extreme Umgebungsbedingungen und in der Spitzenelektronik. BoronHub ist spezialisiert auf Forschung und Entwicklung sowie die kundenspezifische Herstellung hochreiner Boride der unten aufgeführten Kernprodukte aus Übergangsmetallen:Magnesiumdiborid (MgB₂) CAS-Nr.: 12007-25-9; Schmelzpunkt: 830 °C; Dichte: 2,57 g/cm³; Kristallstruktur: hexagonales System. Ein praktisches supraleitendes Material für mittlere Temperaturen mit einer kritischen Temperatur von ca. 39 K. Es spielt eine zentrale Rolle in heliumfreien MRT-Systemen, supraleitenden Leitungen für Windkraftanlagen, supraleitenden Stromübertragungsleitungen und elektronischen Bauteilen für die Hochenergiephysik. Tantaldiborid (TaB₂) CAS-Nr.: 12007-35-1; Schmelzpunkt: ca. 3040 °C; Dichte: ca. 12,7 g/cm³. Ein repräsentatives Ultrahochtemperaturkeramik- (UHTC) und ultrahartes Strukturmaterial. Dank seines extrem hohen Schmelzpunkts und seiner ausgezeichneten Erosionsbeständigkeit findet es breite Anwendung in Wärmeschutzsystemen für Hyperschallfahrzeuge, Luft- und Raumfahrtdüsen sowie in Spezialbeschichtungen für extrem korrosive Umgebungen. Niobdiborid (NbB₂) CAS-Nr.: 12007-29-3; Schmelzpunkt: ca. 3050 °C; Dichte: ca. 6,97 g/cm³. Ein spezielles Keramikmaterial mit hervorragender Hochtemperaturstabilität, elektrischer Leitfähigkeit und Korrosionsbeständigkeit. Es wird häufig als verstärkende Additivphase in Ultrahochtemperatur-Verbundwerkstoffen, in verschleißfesten Beschichtungen für extreme Umgebungen und als wichtiges Strukturmaterial für zivile Kernenergieanwendungen eingesetzt. BoronHub liefert zuverlässig hochreine Übergangsmetallboridpulver mit individuell anpassbaren Partikelgrößenverteilungen (von Mikrometer- bis Nanometerbereich) sowie entsprechende hochdichte Sinterteile. Wir unterstützen umfassend die Fertigungsanforderungen globaler Hightech-Branchen wie Luft- und Raumfahrt, medizinische Supraleitung, neue Energien und Spitzenelektronik. 
    Mehr entdecken
ÜBER UNS

Wir erschließen das Potenzial von Bor als globales Zentrum für hochreine Bor-Materiallösungen

BoronHub Solutions Limited ist ein technologieorientiertes Unternehmen, das sich auf Forschung und Entwicklung, kundenspezifische Fertigung und die weltweite Lieferung hochwertiger borbasierter Werkstoffe spezialisiert hat. Mit zwei strategischen Kernproduktlinien – hochreinem elementarem Bor und kundenspezifischen Borisotopen – bieten wir ein umfassendes Spektrum an Boriden an, darunter hexagonales Bornitrid, kubisches Bornitrid, Borcarbid, Seltenerdhexaboride und Übergangsmetallboride. Wir haben eine vollständige Wertschöpfungskette aufgebaut, die Rohstoffe, funktionale Boride und kundenspezifische Industrielösungen umfasst und hochpräzise Fertigungsbranchen weltweit bedient, darunter Halbleiter, BNCT-Nuklearmedizin, zivile Kernenergie, Luft- und Raumfahrt sowie neue Energien. Basierend auf selbstentwickelten und vollständig kontrollierbaren Kerntrennungs- und Reinigungstechnologien strebt BoronHub danach, ein vertrauenswürdiger, integrierter Partner für hochwertige Bormaterialien weltweit zu sein.
Erfahren Sie mehr über BORONHUB

Downloadzentrum für technische Dokumente

Die neueste vollständige technische Dokumentation für Borprodukte, einschließlich Analysezertifikate, technische Datenblätter, Sicherheitsdatenblätter und Konformitätserklärungen, steht Ihnen zum Download und zur Einsichtnahme als unterstützende Referenz
Dokumente ansehen / herunterladen
Branchen, die wir bedienen

Kundenspezifisches Bor von 2N bis 6N sowie maßgeschneiderte Isotope für die Spitzenindustrien Halbleiter, zivile Kernenergie und Luft- und Raumfahrt.

Hochreines Dotierungsmittel für das Ziehen monokristalliner Siliziumkristalle in Halbleitern

Zielkunden: Waferfabriken, Züchter von monokristallinem Silizium, Halbleiteranlagenhersteller 6N Hochreines kristallines Bor (99,9999 %) – Kernprodukt Detaillierte AnwendungenHochreines Bor ist als „Vitamin der Industrie“ bekannt und findet vor allem in drei strategisch wichtigen Industriezweigen Anwendung: Halbleiter, Luft- und Raumfahrt sowie Kernenergie.Hochreines Silizium wirkt von Natur aus als Isolator; die Bor-Dotierung ist daher unerlässlich, um es in ein stabiles Halbleitermaterial für die Herstellung hochwertiger Chips umzuwandeln. Ultrahochreines kristallines Bor der Reinheitsstufe 6N dient als primäres P-Dotiermittel beim Ziehen von monokristallinen Silizium-Ingots mittels Czochralski- (CZ) und Float-Zone-Verfahren (FZ). Es ist ein entscheidendes Material, das die Gleichmäßigkeit des spezifischen Widerstands und die Ladungsträgermobilität der Wafer maßgeblich beeinflusst. Seine extreme Reinheit (6N) verhindert Verunreinigungen durch schädliche Schwermetalle wie Eisen und Kupfer während der Dotierung, was wiederum die Konsistenz der elektrischen Eigenschaften und die Effizienz des Ladungstransports der fertigen Wafer direkt bestimmt.Die für die Borproduktion erforderlichen aufwendigen Herstellungsverfahren und die firmeneigene Technologie machten dieses Material einst zu einem Engpass, der die Entwicklung der Halbleiterindustrie einschränkte und gleichzeitig als Druckmittel für internationale Sanktionen diente. Durch jahrelange gemeinsame Forschungs- und Entwicklungskooperation mit renommierten Universitäten in Hongkong und Festlandchina beherrschen wir die eigenständige Massenproduktionstechnologie für kristallines 6N-Bor vollständig. Unsere Produktspezifikationen und unsere stabile Lieferkapazität erfüllen die Anwendungsanforderungen von Halbleiterherstellern weltweit.Weltweit werden derzeit über 85 % der monokristallinen Siliziumwafer im Czochralski-Verfahren hergestellt. Die Fertigung von p-dotierten Siliziumwafern ist das ausgereifteste Verfahren und sorgt für eine anhaltend hohe Nachfrage nach hochreinem Bor-Dotierstoff. Kristallines 6N-Bor dient als unverzichtbare Dotierungsquelle für Siliziumsubstrate in Logikchips und Speicherbausteinen, für FZ-dotiertes monokristallines Silizium in Leistungshalbleitern (IGBTs, MOSFETs) sowie für p-dotierte monokristalline Siliziumwafer in Photovoltaikanwendungen. 

Erkunden Sie die Branchen

Halbleiter, Hochleistungschips und Halbleiter der dritten Generation

Halbleiter, Hochleistungschips und Halbleiter der dritten GenerationZielkunden: Waferhersteller (TSMC, SMIC usw.), Züchter von monokristallinem Silizium/Siliziumkarbid, Hersteller von Wärmemanagementsystemen für KI-Server, Halbleiteranlagenlieferanten6N Hochreines kristallines Bor (99,9999 %) – KernproduktAnwendung: Dient als primäres P-Dotiermittel für das Ziehen von monokristallinen Siliziumblöcken mittels Czochralski- (CZ) und Float-Zone-Verfahren (FZ). Seine extrem hohe Reinheit (6N) verhindert schädliche Schwermetallverunreinigungen wie Eisen und Kupfer während des Siliziumkristallwachstums und gewährleistet so direkt einen gleichmäßigen Waferwiderstand und eine hohe Ladungsträgermobilität.Isotopenangereichertes Bor-11 (Elementare Form / Hochreine angereicherte Qualität)Anwendung: Wafer-Dotierung für fortschrittliche Prozessknoten von 3 nm und darunter sowie Modifizierung von SiC/GaN-Breitband-Leistungshalbleitern. Da Bor-11 keine Neutronen absorbiert, eliminiert es effektiv durch Neutronenbestrahlung ausgelöste Chipfehler und verbessert die Strahlungsbeständigkeit und Zuverlässigkeit von High-End-KI-Chips und Halbleitern für die Luft- und Raumfahrt.Angereichertes Bortrifluorid-11 (¹¹BF₃) – Neues FlaggschiffproduktAnwendung: Gasphasen-Ionenimplantationsdotierstoff für die Halbleiterfertigung (zur Herstellung von Hochleistungs-P-Halbleitern) und Lewis-Säure-Katalysator für die fortgeschrittene organische Synthese.Hochreines hexagonales Bornitrid im Nanomaßstab (h-BN)Anwendung: Wärmeleitmaterial (TIM) als Wärmefüller/Wärmeleitpads für Kernchips in KI-Servern, isolierende Wärmeableitungsschichten für Hochleistungselektronikgeräte.Kubisches Bornitrid (c-BN) MikropulverAnwendung: Ultrapräzisionspolieren von Leistungswafern der dritten Generation, einschließlich Siliziumkarbid (SiC), und Superabrasivmitteln für Mikrobohrungen in High-End-Leiterplatten.Lanthanhexaborid (LaB₆)Anwendung: Kathodenmaterial für Plasmaelektronenkanonen in Halbleiterätzanlagen, Elektronenemissionsquellen für High-End-Vakuumbeschichtungssysteme. 

Erkunden Sie die Branchen

Biomedizin & Fortgeschrittene Nuklearmedizin (BNCT-Tumortherapie)

Biomedizin & Fortgeschrittene Nuklearmedizin (BNCT-Tumortherapie)Zielkunden: Unternehmen der nuklearmedizinischen Arzneimittelforschung und -entwicklung, BNCT-Zentren in onkologischen Krankenhäusern, biomedizinische ForschungsinstituteAngereicherte Borsäure-10Anwendung: Synthetisiert Bor-gerichtete Wirkstoffträger für die BNCT-Tumortherapie (z. B. BPA, BSH) und dient als wichtigster vorgelagerter Rohstoff für Arzneimittel zur Bor-Neutroneneinfangtherapie.Isotopenangereichertes Bor-10 (Anpassbare Element-/Verbindungsformen)Anwendung: Zentrale Borquelle für klinische BNCT-Wirkstoffe. Sie reichert sich selektiv in Tumorzellen an und zerstört diese präzise nach Beschuss mit externen Neutronenstrahlen.

Erkunden Sie die Branchen

Kernenergie, Nuklearindustrie & Neutronenabschirmung

Kernenergie, Nuklearindustrie & NeutronenabschirmungZielkunden: Hersteller von Kernkraftwerksausrüstung, Forschungsinstitute von CGN & CNNC, Halbleiterbestrahlungsanlagen, Anbieter von nuklearen DetektionsinstrumentenIsotopenangereichertes Bor-10Anwendung: Herstellung von Steuerstäben für Kernreaktoren und Strahlenschutzpaneelen. Es fängt thermische Neutronen effizient ein, um die Kernreaktorleistung zu regulieren, und bietet zudem Neutronenschutz für Bestrahlungsprozesse in Halbleitern.Borcarbid (B₄C)Anwendung: Neutronenabschirmblöcke und Reaktorkernpellets für Kernkraftwerke, die als leichte Kernstrukturkomponenten zur Neutronenabsorption und zum Strahlenschutz dienen.Hafniumdiborid (HfB₂)Anwendung: Vereint überlegene Neutronenabsorptionskapazität und Korrosionsbeständigkeit; wird als erosionsbeständige Auskleidung für Kernreaktorinnenräume und als Schutzhülle für Kernbrennstoffe eingesetzt.Angereichertes Bortrifluorid-11 (¹¹BF₃) – Neues FlaggschiffproduktAnwendung: Isotopenkalibrierung in der Kernforschung, störungsarme Kerndetektionsreagenzien und Arbeitsmedien für Hochleistungs-Neutronenzähler/Gasdetektoren.

Erkunden Sie die Branchen

Luft- und Raumfahrt, Spezialtreibstoffe und Landesverteidigung

Luft- und Raumfahrt, Spezialtreibstoffe und LandesverteidigungZielkunden: Forschungsinstitute für Luft- und Raumfahrttreibstoffe, Hersteller von Feststoffraketenmotoren, Hersteller militärischer ballistischer Schutzausrüstung3N Amorphes Borpulver (99,9 %) – Neues FlaggschiffproduktAnwendung: Hochenergetisches Additiv für Feststoffraketentreibstoffe, Pyrotechnik und Zünder. Amorphes Borpulver zeichnet sich durch einen extrem hohen Heizwert (etwa doppelt so hoch wie der von Kohlenstoff) und eine geringe Dichte aus, wodurch Schub und spezifischer Impuls von Raketen und Flugkörpern deutlich erhöht werden. Es dient außerdem als Kerninitiator in Gasgeneratoren für Airbags in Kraftfahrzeugen.Borcarbid (B₄C)Anwendung: Leichte ballistische Einsätze für einzelne Soldaten und leichte Schutzpanzerung für bewaffnete Hubschrauber und gepanzerte Fahrzeuge, die ein ultraleichtes Gewicht mit hervorragender Kugelsicherheit in Einklang bringen.Hafniumdiborid (HfB₂)Anwendung: Wärmeschutzbeschichtungen für ultrahohe Temperaturen (UHTCs) für die Vorderkanten von Hyperschallfahrzeugen, Düsenkehlenauskleidungen für Raketendüsen und andere extrem temperaturbeständige, erosionsbeständige Bauteile.Zirkoniumdiborid (ZrB₂)Anwendung: Hochtemperatur-Wärmedämmbeschichtungen für Flugzeuge, Hochtemperatur-Metallurgieelektroden für die Luft- und Raumfahrt.Hexagonales Bornitrid (h-BN)Anwendung: Hochtemperaturisolierung und ablationsbeständige Strukturbauteile für Wärmeschutz- und Antriebssysteme von Luft- und Raumfahrzeugen.

Erkunden Sie die Branchen

Neue Energiebranche (Leistungsbatterien, Energiespeicherung, Aluminiumelektrolyse & Leichtbau)

Neue Energiebranche (Leistungsbatterien, Energiespeicherung, Aluminiumelektrolyse & Leichtbau)Zielkunden: Führende Lithiumbatteriehersteller, Aluminiumhütten, OEMs von Elektrofahrzeugen und KomponentenlieferantenNanometergroßes hexagonales Bornitrid (h-BN)-PulverAnwendung: Hochtemperaturbeständige Beschichtung von Lithiumbatterieseparatoren zur wirksamen Verhinderung des thermischen Durchgehens; wärmeleitender Füllstoff für Energiespeicherwandler.Titandiborid (TiB₂)Anwendung: Benetzbares, inertes Kathodenmaterial für Aluminium-Elektrolysezellen, wodurch der Energieverbrauch bei der Aluminiumverhüttung drastisch gesenkt und die Lebensdauer der Zellen verlängert wird.Kupfer-Bor-Legierung (CuB)Anwendung: Legierungsmodifizierendes Additiv für Hochleistungs-Kupfersammelschienen in Energiespeichern und Leadframes von Elektrofahrzeugen, zur Verbesserung der Kupferfestigkeit und Hitzebeständigkeit.Aluminiumdiborid (AlB₂)Anwendung: Verstärkungspartikel für leichte Strukturbauteile wie Radnaben und Fahrgestelle aus Aluminiumlegierung für Automobile, zur Verbesserung der Verschleißfestigkeit und Steifigkeit von Aluminiummatrix-Verbundwerkstoffen.Ferrobor-Legierung (FeB, 17–20 % Bor-Gehalt)Anwendung: Mikrolegierungsmodifikator für hochfesten Getriebestahl und Wälzlagerstahl in Elektrofahrzeugen, zur Erhöhung der Härtbarkeit des Stahls.

Erkunden Sie die Branchen

Hochpräzisionsbearbeitung, Spezialschneidwerkzeuge & Oberflächentechnik

Hochpräzisionsbearbeitung, Spezialschneidwerkzeuge & OberflächentechnikZielkunden: Hersteller von hochfesten Werkzeugen, Präzisionsformenbauer, Verarbeiter von Photovoltaik-Siliziumwafern, PVD/CVD-Beschichtungsunternehmen3N amorphes BorpulverAnwendung: Hochaktives Borierungsmittel zur Oberflächenbehandlung von Speziallegierungen, das eine ultraharte Boridschicht auf Werkstückoberflächen bildet und die Verschleißfestigkeit von mechanischen Bauteilen exponentiell steigert.Kubische Bornitrid-Einkristalle (c-BN) / MikropulverAnwendung: Herstellung von superharten Schneidwerkzeugen für die Präzisionsbearbeitung und das Schleifen von schwer zerspanbaren Eisenmetallen, einschließlich gehärtetem Stahl, Hochtemperaturlegierungen und Getriebeteilen für Fahrzeuge mit alternativen Antrieben.Borcarbid (B₄C)Anwendung: Schneidmittel für großformatige Photovoltaik-Siliziumblöcke, ultrapräzise Läpp- und Poliermittel für Saphirsubstrate und Halbleiterwafer.Titandiborid (TiB₂) / Chromdiborid (CrB₂)Anwendung: Verschleißfeste PVD-Beschichtungen für industrielle Schneidwerkzeuge, korrosions- und verschleißfeste Beschichtungen auf Präzisionswerkzeugoberflächen.

Erkunden Sie die Branchen

Metallurgie, Spezialglas & feuerfeste Werkstoffe

Metallurgie, Spezialglas & feuerfeste WerkstoffeZielkunden: Spezialstahlwerke, Nichteisenmetallhütten, Hersteller von Premium-Spezialglas (Faserzieh- und optoelektronisches Glas)Ferrobor-Legierung (FeB, 17–20 % Bor-Gehalt)Anwendung: Desoxidationsmittel und Kornfeinungsmittel für die Schmelze von hochfestem Baustahl, hochbelastbarem Stahl und Permanentmagnetstahl, wodurch die Härtbarkeit des Stahls erheblich verbessert wird.Zirkoniumdiborid (ZrB₂)Anwendung: Hochtemperatur-Feuerfestformen für die Glasfaserherstellung und Hochtemperaturelektroden für die Spezialglasproduktion, die sich durch außergewöhnliche Oxidationsbeständigkeit und Beständigkeit gegen Erosion durch geschmolzene metallurgische Werkstoffe auszeichnen.Vollständiges Sortiment an vorlegierten Borpulvern (FeB / NiB / CuB / ZrB / MoB / CoB)Anwendung: Modifizierungsadditive für die hochwertige Nichteisenmetall- und Speziallegierungsverhüttung oder Rohmaterialien für die pulvermetallurgische Formgebung. Kundenspezifischer Borgehalt und präzise Partikelgrößenverteilung auf Anfrage erhältlich.

Erkunden Sie die Branchen

Fortgeschrittene sonstige Anwendungen (Wissenschaftliche Instrumente / Supraleiter / Kosmetik / Feinchemikalien)

Fortgeschrittene sonstige Anwendungen (Wissenschaftliche Instrumente / Supraleiter / Kosmetik / Feinchemikalien)Lanthanhexaborid (LaB₆) / Cerhexaborid (CeB₆)Anwendung: Kathodenmaterialien für Elektronenkanonen in Transmissionselektronenmikroskopen (TEM) und Rasterelektronenmikroskopen (SEM), langlebige Hochtemperatur-Elektronenkathoden für Tiefraumsonden.Magnesiumdiborid (MgB₂)Anwendung: Kommerziell nutzbares supraleitendes Material für mittlere Temperaturen, das zur Herstellung kostengünstiger supraleitender Magnetspulen für medizinische MRT-Scanner und supraleitender Stromübertragungskabel für städtische Gebiete verwendet wird.Ultrafeines, hochreines hexagonales Bornitrid (h-BN)-PulverAnwendung: Hochwertiges, mattes Puder für High-End-Kosmetik (Kompaktpuder, Lidschatten usw.), das für eine seidige Textur und natürliche Deckkraft sorgt.

Erkunden Sie die Branchen

Häufig gestellte Fragen: Schnelle und klare Antworten auf Ihre wichtigsten Fragen.

BoronHub ist ein technologieorientiertes Unternehmen für Hochleistungsmaterialien. Unser Hauptsitz befindet sich in Hongkong, operative Niederlassungen in Shenzhen und konforme Produktionsstätten in Festlandchina. Wir beherrschen die Kerntechnologien zur hochreinen Borreinigung und Borisotopentrennu...
Unsere Kernproduktlinien lassen sich in zwei Hauptgruppen unterteilen: * Hochreines elementares Bor (kristallines 6N-Bor, amorphes 3N-Bor); * Borisotope mit vollem Spektrum (elementares ¹⁰B, elementares ¹¹B, angereicherte Borsäure-¹⁰B, angereicherte Borsäure-¹¹B, angereichertes Bortrifluorid-¹¹B). E...
Die Rohstoffe stammen aus zertifizierten Borerzvorkommen in chinesischen Salzseen und gewährleisten eine lückenlose Rückverfolgbarkeit entlang der gesamten Lieferkette. Wir verfügen über ausreichende Produktionskapazitäten, um langfristig stabile Großaufträge unserer globalen Kunden zu erfüllen.
Jedes Produkt ist einer offiziellen CAS-Registrierungsnummer zugeordnet, z. B. kristallines Bor CAS 7440-42-8, Borcarbid CAS 12069-32-8. Die CAS-Dokumentation kann zusammen mit der Bestellung für die Qualifizierungsanträge der Kunden bereitgestellt werden.
Unsere Produktionsstätten im Inland sind vertrauliche, bei den Behörden registrierte Anlagen mit strengen Zugangskontrollen und können daher nicht besichtigt werden. Wir bitten um Entschuldigung für etwaige Unannehmlichkeiten. Vollständige Qualitätsprüfungs- und Konformitätsdokumente können online b...
Falls Ihre Fragen weiterhin unbeantwortet bleiben, wenden Sie sich bitte an unser technisches Vertriebsteam für eine persönliche Beratung.
Falls Ihre Fragen weiterhin unbeantwortet bleiben, wenden Sie sich bitte an unser technisches Vertriebsteam für eine persönliche Beratung.
Diese FAQ-Bibliothek vereinfacht die Kommunikation und beantwortet häufig gestellte Fragen zu Produktauswahl, technischen Spezifikationen, Exportbestimmungen und Bestellvorgängen. Die Inhalte basieren auf aktuellen Spezifikationen und Vorschriften und sch

Blog und Medien

Blog
Nachricht
Siliziumarmes, hochreines B4C-Granulat für die Bor-Spezialgassynthese
Sep 21,2026

Siliziumarmes, hochreines B4C-Granulat für die Bor-Spezialgassynthese

High-Purity Low-Silicon Boron Carbide (B4C) Granules: Silicon Control & Raw-Material Selection for Electronic-Grade Boron-Based Gas Synthesis   BoronHub Technical Note | CAS No. 12069-32-8 | Standard 2-5 mm Granules   In the semiconductor, photovoltaic, display-panel and fine-chemical-synthesis industries, electronic specialty gases impose extremely stringent purity requirements on feedstock materials. When Boron Carbide (B4C) is utilised as a solid boron source to synthesise boron-containing gases such as boron trifluoride (BF3), boron trichloride (BCl₃) and diborane (B₂H₆), impurity control — especially silicon (Si) content — directly governs reaction conversion efficiency, crude-gas purity, distillation load, as well as the application reliability of end-products. Referencing BoronHub’s high-purity boron-carbide product documentation, high-purity B4C is commonly identified under CAS No. 12069-32-8. Its specification framework is built around total boron, total carbon, free B2O3 and metallic / non-metallic impurities. For gas-synthesis feedstock, silicon grading must be precisely matched to the purity tier of downstream gases.   1. Why is silicon (Si) content tightly controlled for gas-synthesis feedstock? During high-emperature halogenation or reduction reactions, trace residual silicon impurities inside boron-carbide feedstock may transform into volatile silicon halides including SiCl4 and SiF4. Once these silicon-bearing species enter the crude-gas stream, they trigger multiple engineering challenges:   Higher distillation-separation difficulty: Certain silicon halides exhibit boiling points close to target boron-based gases. Separation of SiF₄ from BF₃ is particularly difficult under fluorine-system conditions, driving up energy consumption for low-temperature distillation and condensation purification.   Risk of end-product contamination: Residual silicon entering downstream CVD, diffusion or doping processes can alter thin-film stoichiometry, introduce particulate defects, and thereby degrade device electrical performance and production yield.     Equipment & catalyst hazards: Volatile silicon compounds may deposit on cold zones of pipelines, valves or reactors, causing blockages, abrasion or catalyst deactivation, which disrupt continuous stable operation. Accordingly, boron-carbide feedstock for gas synthesis cannot focus merely on total-boron and total-carbon metrics. The upper limit for silicon content should align with target gasproduct purity, reactor configuration and purification capacity, rather than chasing a simplistic “high-purity” label.   2. Technical Specifications of BoronHub Low-Silicon Boron-Carbide Granules BoronHub supplies high-purity low-silicon boron-carbide granules with standard particle size of 2-5 mm, suitable for fixed-bed, packed-bed and selected fluidised reaction systems. While maintaining high total-boron, high total-carbon and low free-B2O₃ performance, our products feature well-defined silicon-content grades. Model No. Total B + C Total B Total C Free B₂O₃ Silicon Si Specification UMBC-LS10 ≥98.50% ≥78.00% ≥18.00% ≤0.30% ≤0.10% UMBC-LS20 ≥98.50% ≥78.00% ≥18.00% ≤0.30% ≤0.20% UMBC-LS30 ≥98.50% ≥78.00% ≥18.00% ≤0.30% ≤0.30% UMBC-LS40 ≥98.50% ≥78.00% ≥18.00% ≤0.30% ≤0.40% UMBC-LS50 ≥98.00% ≥77.00% ≥18.00% ≤0.30% ≤0.50% Note: For industrial-grade gas synthesis or cost-sensitive projects, BoronHub can also deliver custom economy grades with Si < 0.90%. All minimum / maximum values serve as factory acceptance test criteria.   3. Beyond Silicon Grading: Synergistic Importance of Total B, Total C and Free B₂O₃ Silicon control is the core requirement for gas-synthesis feedstock, yet it is not the only parameter. BoronHub’s specification system simultaneously addresses the following indicators: Total B + C ≥98.50%: Guarantees effective boron-carbon content and minimises interference from inert impurities and oxygen on reaction efficiency. Total B ≥78.00%: Secures boron supply per unit feedstock, which improves gas-synthesis conversion rates. Total C ≥18.00%: Preserves B₄C stoichiometric balance for more predictable high-temperature reaction behaviour. Free B₂O₃ ≤0.30%: Mitigates ingress of oxygen and moisture, reducing side-reactions and oxygen-bearing impurities in downstream gases. Together with silicon-content grades, these parameters establish a complete quality-control framework for gas-synthesis raw materials. For gas products including BF3, BCl₃ and B₂H₆, customers can select the optimal low-silicon boron-carbide grade based on reaction pathways, distillation capacity and end-point purity requirements.   4. Engineering Advantages of 25 mm Granules Our standard 2-5 mm granules are not simply screened material; the particle morphology is optimised for gas-solid reaction engineering requirements: Minimise bed maldistribution: Uniform granules stabilise gas distribution and mitigate channeling and localised overheating.   Preserve excellent gas permeability: Deliver stable pressure-drop and reaction contact area within fixed-bed or packed-bed reactors. Reduce dust & entrainment: Compared with fine powders, granular material generates less dust during loading and operation, safeguarding gas purity and simplifying equipment maintenance.   Facilitate moisture-proof handling: When paired with hermetic sealing packaging, it lowers risks of B₂O₃ moisture-absorption and water contamination. Beyond the standard 2-5 mm grade, BoronHub can custom-engineer alternative particle-size ranges and particle-size distributions to match customer reactor geometry, sieve gradation and loading procedures.   5. Quality Assurance, Testing & Supply Capacity For electronic-specialty-gas synthesis clients, BoronHub delivers consistent batch-to-batch performance and scalable supply capacity: Each batch is tested against factory acceptance criteria; COA (Certificate of Analysis) can be provided alongside shipments. Traceelement testing such as ICP-MS is available upon request for target impurities including Fe, Al and Cr. Products are packed in moisture-proof hermetic packaging to minimise moisture exposure during transit and storage. Routine supply can align with steady monthly procurement schedules; packaging and commercial terms can be negotiated separately. Custom sieve-grading, sample testing and technical-document support are available.   6. Commercial Enquiries & Customisation Product pricing is directly correlated to silicon-content grades. Tighter silicon specifications ranging from Si < 0.90 %, < 0.50 %, < 0.40 %, < 0.30 %, < 0.20 % down to < 0.10 % demand stricter raw-material screening, process control and batch-testing protocols. Please contact the BoronHub technical-commercial team to obtain quotations for specific silicon grades, customisation & shipping proposals, COA templates or sieve-gradation datasheets.   BoronHub — High-Purity Low-Silicon BoronCarbide Granules. Controlled, stable and customisable feedstock solutions for electronic-grade boron-based gas synthesis.  
Der Markt für Borcarbid wird bis 2033 ein Volumen von 285,6 Mio. USD erreichen.
Sep 21,2026

Der Markt für Borcarbid wird bis 2033 ein Volumen von 285,6 Mio. USD erreichen.

Der Markt für Borcarbid wird bis 2033 voraussichtlich ein Volumen von 285,6 Mio. USD erreichen, angetrieben durch die Nachfrage nach Leichtbaupanzerung, Schleifmitteln und Hochleistungskeramik. 11:22 Uhr MEZ, 10. September 2026 | Nachrichten aus der Chemie- und Werkstoffbranche | Quelle: Persistence Market Research Marktübersicht BorcarbidAngetrieben durch die steigende Nachfrage nach Hochleistungsmaterialien in den Bereichen Schleifmittel, Verteidigung, Hochleistungskeramik und Kernenergie, wächst der globale Markt für Borcarbid stetig. Laut Persistence Market Research wird der Markt bis 2026 voraussichtlich 181,4 Millionen US-Dollar und bis 2033 285,6 Millionen US-Dollar erreichen, was einer durchschnittlichen jährlichen Wachstumsrate (CAGR) von 6,7 % von 2026 bis 2033 entspricht. Bereits 2020 lag der Markt bei 132,3 Millionen US-Dollar, was die anhaltend wachsende Nachfrage nach Borcarbid aufgrund seiner außergewöhnlichen Härte, Langlebigkeit und funktionalen Eigenschaften belegt.Die steigende Nachfrage nach Hochleistungswerkstoffen für industrielle und strategische Anwendungen treibt das Marktwachstum weiter an. Schleifmittelhaltiges Borcarbid dominiert den Markt und wird voraussichtlich 2026 einen Marktanteil von rund 47 % erreichen. Pulver ist die führende Produktform mit einem Marktanteil von ca. 58 %. Die Region Asien-Pazifik ist führend auf dem Weltmarkt und wird Prognosen zufolge 2026 einen Marktanteil von 51 % halten. Dies wird durch den Ausbau der Produktionskapazitäten und die starke Nachfrage wichtiger Endverbraucherbranchen begünstigt. Wichtigste Ergebnisse des BerichtsWeltweiter Markt für Borcarbid: 181,4 Mio. USD im Jahr 2026, prognostizierter Anstieg auf 285,6 Mio. USD bis 2033; CAGR 6,7 % (2026–2033).Die Marktbewertung im Jahr 2020 lag bei 132,3 Millionen US-Dollar, was auf ein stetiges Nachfragewachstum nach Borcarbidmaterialien hindeutet.Der asiatisch-pazifische Raum ist der wichtigste regionale Markt und wird Schätzungen zufolge im Jahr 2026 einen Marktanteil von 51 % erreichen.Die Schleifmittelqualität bleibt die dominierende Qualität und wird voraussichtlich im Jahr 2026 einen Umsatzanteil von ca. 47 % ausmachen.Pulver ist die primäre physische Darreichungsform und wird im Jahr 2026 einen Umsatzanteil von ca. 58 % ausmachen.Es wird erwartet, dass sich zwischen 2026 und 2033 neue Marktchancen im Wert von 104,2 Millionen US-Dollar ergeben werden. Fortschrittliche Anwendungen steigern die Nachfrage nach BorcarbidDie steigende Nachfrage nach Hochleistungsmaterialien eröffnet Borcarbid neue Einsatzmöglichkeiten in einer Vielzahl spezialisierter Endanwendungen. Schleifmittelanwendungen spielen dabei weiterhin eine besonders wichtige Rolle, was sich in der führenden Marktposition von Borcarbid in Schleifmittelqualität widerspiegelt. Seine langjährige Erfahrung in anspruchsvollen industriellen Anwendungen untermauert das anhaltende Marktwachstum. Anwendungen von Hochleistungskeramik entwickeln sich zu einem weiteren Wachstumssegment. Im März 2025 kündigte ESK Ceramics (eine Tochtergesellschaft von 3M) ​​ihre neue ultrafeine Keramik an. Borcarbid Pulver (D50
Eine Nachricht hinterlassen
Eine Nachricht hinterlassen
Sie interessieren sich für unsere Bormaterialien? Hinterlassen Sie uns bitte eine Nachricht mit Ihren Anforderungen – unser technisches Vertriebsteam wird sich innerhalb von 24 Stunden bei Ihnen melden.
Eine Nachricht hinterlassen
Sie interessieren sich für unsere Bormaterialien? Hinterlassen Sie uns bitte eine Nachricht mit Ihren Anforderungen – unser technisches Vertriebsteam wird sich innerhalb von 24 Stunden bei Ihnen melden.

Heim

Produkte

WhatsApp

Kontaktieren Sie uns