
Zielkunden: Waferfabriken, Züchter von monokristallinem Silizium, Halbleiteranlagenhersteller 6N Hochreines kristallines Bor (99,9999 %) – Kernprodukt Detaillierte AnwendungenHochreines Bor ist als „Vitamin der Industrie“ bekannt und findet vor allem in drei strategisch wichtigen Industriezweigen Anwendung: Halbleiter, Luft- und Raumfahrt sowie Kernenergie.Hochreines Silizium wirkt von Natur aus als Isolator; die Bor-Dotierung ist daher unerlässlich, um es in ein stabiles Halbleitermaterial für die Herstellung hochwertiger Chips umzuwandeln. Ultrahochreines kristallines Bor der Reinheitsstufe 6N dient als primäres P-Dotiermittel beim Ziehen von monokristallinen Silizium-Ingots mittels Czochralski- (CZ) und Float-Zone-Verfahren (FZ). Es ist ein entscheidendes Material, das die Gleichmäßigkeit des spezifischen Widerstands und die Ladungsträgermobilität der Wafer maßgeblich beeinflusst. Seine extreme Reinheit (6N) verhindert Verunreinigungen durch schädliche Schwermetalle wie Eisen und Kupfer während der Dotierung, was wiederum die Konsistenz der elektrischen Eigenschaften und die Effizienz des Ladungstransports der fertigen Wafer direkt bestimmt.Die für die Borproduktion erforderlichen aufwendigen Herstellungsverfahren und die firmeneigene Technologie machten dieses Material einst zu einem Engpass, der die Entwicklung der Halbleiterindustrie einschränkte und gleichzeitig als Druckmittel für internationale Sanktionen diente. Durch jahrelange gemeinsame Forschungs- und Entwicklungskooperation mit renommierten Universitäten in Hongkong und Festlandchina beherrschen wir die eigenständige Massenproduktionstechnologie für kristallines 6N-Bor vollständig. Unsere Produktspezifikationen und unsere stabile Lieferkapazität erfüllen die Anwendungsanforderungen von Halbleiterherstellern weltweit.Weltweit werden derzeit über 85 % der monokristallinen Siliziumwafer im Czochralski-Verfahren hergestellt. Die Fertigung von p-dotierten Siliziumwafern ist das ausgereifteste Verfahren und sorgt für eine anhaltend hohe Nachfrage nach hochreinem Bor-Dotierstoff. Kristallines 6N-Bor dient als unverzichtbare Dotierungsquelle für Siliziumsubstrate in Logikchips und Speicherbausteinen, für FZ-dotiertes monokristallines Silizium in Leistungshalbleitern (IGBTs, MOSFETs) sowie für p-dotierte monokristalline Siliziumwafer in Photovoltaikanwendungen.
Erkunden Sie die BranchenHalbleiter, Hochleistungschips und Halbleiter der dritten GenerationZielkunden: Waferhersteller (TSMC, SMIC usw.), Züchter von monokristallinem Silizium/Siliziumkarbid, Hersteller von Wärmemanagementsystemen für KI-Server, Halbleiteranlagenlieferanten6N Hochreines kristallines Bor (99,9999 %) – KernproduktAnwendung: Dient als primäres P-Dotiermittel für das Ziehen von monokristallinen Siliziumblöcken mittels Czochralski- (CZ) und Float-Zone-Verfahren (FZ). Seine extrem hohe Reinheit (6N) verhindert schädliche Schwermetallverunreinigungen wie Eisen und Kupfer während des Siliziumkristallwachstums und gewährleistet so direkt einen gleichmäßigen Waferwiderstand und eine hohe Ladungsträgermobilität.Isotopenangereichertes Bor-11 (Elementare Form / Hochreine angereicherte Qualität)Anwendung: Wafer-Dotierung für fortschrittliche Prozessknoten von 3 nm und darunter sowie Modifizierung von SiC/GaN-Breitband-Leistungshalbleitern. Da Bor-11 keine Neutronen absorbiert, eliminiert es effektiv durch Neutronenbestrahlung ausgelöste Chipfehler und verbessert die Strahlungsbeständigkeit und Zuverlässigkeit von High-End-KI-Chips und Halbleitern für die Luft- und Raumfahrt.Angereichertes Bortrifluorid-11 (¹¹BF₃) – Neues FlaggschiffproduktAnwendung: Gasphasen-Ionenimplantationsdotierstoff für die Halbleiterfertigung (zur Herstellung von Hochleistungs-P-Halbleitern) und Lewis-Säure-Katalysator für die fortgeschrittene organische Synthese.Hochreines hexagonales Bornitrid im Nanomaßstab (h-BN)Anwendung: Wärmeleitmaterial (TIM) als Wärmefüller/Wärmeleitpads für Kernchips in KI-Servern, isolierende Wärmeableitungsschichten für Hochleistungselektronikgeräte.Kubisches Bornitrid (c-BN) MikropulverAnwendung: Ultrapräzisionspolieren von Leistungswafern der dritten Generation, einschließlich Siliziumkarbid (SiC), und Superabrasivmitteln für Mikrobohrungen in High-End-Leiterplatten.Lanthanhexaborid (LaB₆)Anwendung: Kathodenmaterial für Plasmaelektronenkanonen in Halbleiterätzanlagen, Elektronenemissionsquellen für High-End-Vakuumbeschichtungssysteme.
Erkunden Sie die BranchenBiomedizin & Fortgeschrittene Nuklearmedizin (BNCT-Tumortherapie)Zielkunden: Unternehmen der nuklearmedizinischen Arzneimittelforschung und -entwicklung, BNCT-Zentren in onkologischen Krankenhäusern, biomedizinische ForschungsinstituteAngereicherte Borsäure-10Anwendung: Synthetisiert Bor-gerichtete Wirkstoffträger für die BNCT-Tumortherapie (z. B. BPA, BSH) und dient als wichtigster vorgelagerter Rohstoff für Arzneimittel zur Bor-Neutroneneinfangtherapie.Isotopenangereichertes Bor-10 (Anpassbare Element-/Verbindungsformen)Anwendung: Zentrale Borquelle für klinische BNCT-Wirkstoffe. Sie reichert sich selektiv in Tumorzellen an und zerstört diese präzise nach Beschuss mit externen Neutronenstrahlen.
Erkunden Sie die BranchenKernenergie, Nuklearindustrie & NeutronenabschirmungZielkunden: Hersteller von Kernkraftwerksausrüstung, Forschungsinstitute von CGN & CNNC, Halbleiterbestrahlungsanlagen, Anbieter von nuklearen DetektionsinstrumentenIsotopenangereichertes Bor-10Anwendung: Herstellung von Steuerstäben für Kernreaktoren und Strahlenschutzpaneelen. Es fängt thermische Neutronen effizient ein, um die Kernreaktorleistung zu regulieren, und bietet zudem Neutronenschutz für Bestrahlungsprozesse in Halbleitern.Borcarbid (B₄C)Anwendung: Neutronenabschirmblöcke und Reaktorkernpellets für Kernkraftwerke, die als leichte Kernstrukturkomponenten zur Neutronenabsorption und zum Strahlenschutz dienen.Hafniumdiborid (HfB₂)Anwendung: Vereint überlegene Neutronenabsorptionskapazität und Korrosionsbeständigkeit; wird als erosionsbeständige Auskleidung für Kernreaktorinnenräume und als Schutzhülle für Kernbrennstoffe eingesetzt.Angereichertes Bortrifluorid-11 (¹¹BF₃) – Neues FlaggschiffproduktAnwendung: Isotopenkalibrierung in der Kernforschung, störungsarme Kerndetektionsreagenzien und Arbeitsmedien für Hochleistungs-Neutronenzähler/Gasdetektoren.
Erkunden Sie die BranchenLuft- und Raumfahrt, Spezialtreibstoffe und LandesverteidigungZielkunden: Forschungsinstitute für Luft- und Raumfahrttreibstoffe, Hersteller von Feststoffraketenmotoren, Hersteller militärischer ballistischer Schutzausrüstung3N Amorphes Borpulver (99,9 %) – Neues FlaggschiffproduktAnwendung: Hochenergetisches Additiv für Feststoffraketentreibstoffe, Pyrotechnik und Zünder. Amorphes Borpulver zeichnet sich durch einen extrem hohen Heizwert (etwa doppelt so hoch wie der von Kohlenstoff) und eine geringe Dichte aus, wodurch Schub und spezifischer Impuls von Raketen und Flugkörpern deutlich erhöht werden. Es dient außerdem als Kerninitiator in Gasgeneratoren für Airbags in Kraftfahrzeugen.Borcarbid (B₄C)Anwendung: Leichte ballistische Einsätze für einzelne Soldaten und leichte Schutzpanzerung für bewaffnete Hubschrauber und gepanzerte Fahrzeuge, die ein ultraleichtes Gewicht mit hervorragender Kugelsicherheit in Einklang bringen.Hafniumdiborid (HfB₂)Anwendung: Wärmeschutzbeschichtungen für ultrahohe Temperaturen (UHTCs) für die Vorderkanten von Hyperschallfahrzeugen, Düsenkehlenauskleidungen für Raketendüsen und andere extrem temperaturbeständige, erosionsbeständige Bauteile.Zirkoniumdiborid (ZrB₂)Anwendung: Hochtemperatur-Wärmedämmbeschichtungen für Flugzeuge, Hochtemperatur-Metallurgieelektroden für die Luft- und Raumfahrt.Hexagonales Bornitrid (h-BN)Anwendung: Hochtemperaturisolierung und ablationsbeständige Strukturbauteile für Wärmeschutz- und Antriebssysteme von Luft- und Raumfahrzeugen.
Erkunden Sie die BranchenNeue Energiebranche (Leistungsbatterien, Energiespeicherung, Aluminiumelektrolyse & Leichtbau)Zielkunden: Führende Lithiumbatteriehersteller, Aluminiumhütten, OEMs von Elektrofahrzeugen und KomponentenlieferantenNanometergroßes hexagonales Bornitrid (h-BN)-PulverAnwendung: Hochtemperaturbeständige Beschichtung von Lithiumbatterieseparatoren zur wirksamen Verhinderung des thermischen Durchgehens; wärmeleitender Füllstoff für Energiespeicherwandler.Titandiborid (TiB₂)Anwendung: Benetzbares, inertes Kathodenmaterial für Aluminium-Elektrolysezellen, wodurch der Energieverbrauch bei der Aluminiumverhüttung drastisch gesenkt und die Lebensdauer der Zellen verlängert wird.Kupfer-Bor-Legierung (CuB)Anwendung: Legierungsmodifizierendes Additiv für Hochleistungs-Kupfersammelschienen in Energiespeichern und Leadframes von Elektrofahrzeugen, zur Verbesserung der Kupferfestigkeit und Hitzebeständigkeit.Aluminiumdiborid (AlB₂)Anwendung: Verstärkungspartikel für leichte Strukturbauteile wie Radnaben und Fahrgestelle aus Aluminiumlegierung für Automobile, zur Verbesserung der Verschleißfestigkeit und Steifigkeit von Aluminiummatrix-Verbundwerkstoffen.Ferrobor-Legierung (FeB, 17–20 % Bor-Gehalt)Anwendung: Mikrolegierungsmodifikator für hochfesten Getriebestahl und Wälzlagerstahl in Elektrofahrzeugen, zur Erhöhung der Härtbarkeit des Stahls.
Erkunden Sie die BranchenHochpräzisionsbearbeitung, Spezialschneidwerkzeuge & OberflächentechnikZielkunden: Hersteller von hochfesten Werkzeugen, Präzisionsformenbauer, Verarbeiter von Photovoltaik-Siliziumwafern, PVD/CVD-Beschichtungsunternehmen3N amorphes BorpulverAnwendung: Hochaktives Borierungsmittel zur Oberflächenbehandlung von Speziallegierungen, das eine ultraharte Boridschicht auf Werkstückoberflächen bildet und die Verschleißfestigkeit von mechanischen Bauteilen exponentiell steigert.Kubische Bornitrid-Einkristalle (c-BN) / MikropulverAnwendung: Herstellung von superharten Schneidwerkzeugen für die Präzisionsbearbeitung und das Schleifen von schwer zerspanbaren Eisenmetallen, einschließlich gehärtetem Stahl, Hochtemperaturlegierungen und Getriebeteilen für Fahrzeuge mit alternativen Antrieben.Borcarbid (B₄C)Anwendung: Schneidmittel für großformatige Photovoltaik-Siliziumblöcke, ultrapräzise Läpp- und Poliermittel für Saphirsubstrate und Halbleiterwafer.Titandiborid (TiB₂) / Chromdiborid (CrB₂)Anwendung: Verschleißfeste PVD-Beschichtungen für industrielle Schneidwerkzeuge, korrosions- und verschleißfeste Beschichtungen auf Präzisionswerkzeugoberflächen.
Erkunden Sie die BranchenMetallurgie, Spezialglas & feuerfeste WerkstoffeZielkunden: Spezialstahlwerke, Nichteisenmetallhütten, Hersteller von Premium-Spezialglas (Faserzieh- und optoelektronisches Glas)Ferrobor-Legierung (FeB, 17–20 % Bor-Gehalt)Anwendung: Desoxidationsmittel und Kornfeinungsmittel für die Schmelze von hochfestem Baustahl, hochbelastbarem Stahl und Permanentmagnetstahl, wodurch die Härtbarkeit des Stahls erheblich verbessert wird.Zirkoniumdiborid (ZrB₂)Anwendung: Hochtemperatur-Feuerfestformen für die Glasfaserherstellung und Hochtemperaturelektroden für die Spezialglasproduktion, die sich durch außergewöhnliche Oxidationsbeständigkeit und Beständigkeit gegen Erosion durch geschmolzene metallurgische Werkstoffe auszeichnen.Vollständiges Sortiment an vorlegierten Borpulvern (FeB / NiB / CuB / ZrB / MoB / CoB)Anwendung: Modifizierungsadditive für die hochwertige Nichteisenmetall- und Speziallegierungsverhüttung oder Rohmaterialien für die pulvermetallurgische Formgebung. Kundenspezifischer Borgehalt und präzise Partikelgrößenverteilung auf Anfrage erhältlich.
Erkunden Sie die BranchenFortgeschrittene sonstige Anwendungen (Wissenschaftliche Instrumente / Supraleiter / Kosmetik / Feinchemikalien)Lanthanhexaborid (LaB₆) / Cerhexaborid (CeB₆)Anwendung: Kathodenmaterialien für Elektronenkanonen in Transmissionselektronenmikroskopen (TEM) und Rasterelektronenmikroskopen (SEM), langlebige Hochtemperatur-Elektronenkathoden für Tiefraumsonden.Magnesiumdiborid (MgB₂)Anwendung: Kommerziell nutzbares supraleitendes Material für mittlere Temperaturen, das zur Herstellung kostengünstiger supraleitender Magnetspulen für medizinische MRT-Scanner und supraleitender Stromübertragungskabel für städtische Gebiete verwendet wird.Ultrafeines, hochreines hexagonales Bornitrid (h-BN)-PulverAnwendung: Hochwertiges, mattes Puder für High-End-Kosmetik (Kompaktpuder, Lidschatten usw.), das für eine seidige Textur und natürliche Deckkraft sorgt.
Erkunden Sie die Branchen
Scannen Sie den QR-Code zu WeChat :
Scannen und zu WhatsApp senden :
Heim
Produkte
Kontaktieren Sie uns