Elementares Bor – Kristallin & Amorph
Elementares Bor bildet die Grundlage des Portfolios von BoronHub und wird in hochreines kristallines Bor und amorphes Bor für unterschiedliche industrielle Anwendungen unterteilt.
Hochreines kristallines Bor (4N–6N)
Es besitzt eine β-rhomboedrische Struktur und ist als graubraunes Pulver (>500 μm) oder Granulat (1–10 mm) mit einer Reinheit von 99,99 % (4N) bis 99,9999 % (6N) erhältlich. Es zeichnet sich durch außergewöhnliche chemische Stabilität, eine Mohs-Härte von 9,3, einen Schmelzpunkt von 2076 °C und Halbleitereigenschaften aus. Es findet Anwendung beim Dotieren von Siliziumwafern, der Synthese superharter Materialien (z. B. CBN), in Legierungen für die Luft- und Raumfahrt sowie in Hochenergiebrennstoffen.
Amorphes Bor (2N–3N)
Es besitzt eine α-tetragonale Nahordnung und ist ein dunkelbraunes Pulver (>500 μm). Es ist chemisch reaktiv: Die Oxidation beginnt bei 300 °C, die Zündung bei 700 °C, und es löst sich in konzentrierten Laugen unter Wasserstofffreisetzung. Anwendungsgebiete sind Raketentreibstoffe, Airbag-Zünder, legierte Stähle, Borfasern sowie die Synthese von Borhalogeniden und Seltenerdboriden (z. B. LaB₆).
Anpassung
BoronHub bietet volle Flexibilität hinsichtlich Reinheit (2N–6N), Partikelgröße (Submikron bis 10 mm) und Kristallform (α/β). Die Produkte werden vakuumversiegelt in Aluminiumfolienbeuteln oder PTFE-Flaschen unter Schutzgasatmosphäre verpackt und sind 12 Monate haltbar. Kundenspezifische Spezifikationen sind für die Halbleiter-, Nuklear-, Luft- und Raumfahrt-, Metallurgie- und Feinchemieindustrie erhältlich.
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