Elementares Bor

Elementares Bor – Kristallin & Amorph

Elementares Bor bildet die Grundlage des Portfolios von BoronHub und wird in hochreines kristallines Bor und amorphes Bor für unterschiedliche industrielle Anwendungen unterteilt.

 

Hochreines kristallines Bor (4N–6N)

Es besitzt eine β-rhomboedrische Struktur und ist als graubraunes Pulver (>500 μm) oder Granulat (1–10 mm) mit einer Reinheit von 99,99 % (4N) bis 99,9999 % (6N) erhältlich. Es zeichnet sich durch außergewöhnliche chemische Stabilität, eine Mohs-Härte von 9,3, einen Schmelzpunkt von 2076 °C und Halbleitereigenschaften aus. Es findet Anwendung beim Dotieren von Siliziumwafern, der Synthese superharter Materialien (z. B. CBN), in Legierungen für die Luft- und Raumfahrt sowie in Hochenergiebrennstoffen.

 

Amorphes Bor (2N–3N)

Es besitzt eine α-tetragonale Nahordnung und ist ein dunkelbraunes Pulver (>500 μm). Es ist chemisch reaktiv: Die Oxidation beginnt bei 300 °C, die Zündung bei 700 °C, und es löst sich in konzentrierten Laugen unter Wasserstofffreisetzung. Anwendungsgebiete sind Raketentreibstoffe, Airbag-Zünder, legierte Stähle, Borfasern sowie die Synthese von Borhalogeniden und Seltenerdboriden (z. B. LaB₆).

 

Anpassung

BoronHub bietet volle Flexibilität hinsichtlich Reinheit (2N–6N), Partikelgröße (Submikron bis 10 mm) und Kristallform (α/β). Die Produkte werden vakuumversiegelt in Aluminiumfolienbeuteln oder PTFE-Flaschen unter Schutzgasatmosphäre verpackt und sind 12 Monate haltbar. Kundenspezifische Spezifikationen sind für die Halbleiter-, Nuklear-, Luft- und Raumfahrt-, Metallurgie- und Feinchemieindustrie erhältlich.

  • 6N Boron for dopant
    Kristalline Borpellets mit 6N-Reinheit für Halbleiter-Dotierstoffe
    Kristallines Bor besitzt eine β-rhomboedrische Struktur und ist die stabilste bekannte Modifikation des elementaren Bors. Es wird als graubraunes Pulver (15–60 μm) oder Granulat (1–10 mm) mit Reinheitsgraden von 2N bis 6N angeboten. Es zeichnet sich durch hervorragende chemische Inertheit und überlegene Oxidationsbeständigkeit bei Raumtemperatur aus. Mit einer Mohshärte von 9,3 – nur Diamant weist eine höhere Härte auf – und einer geringen Dichte von lediglich 2,34 g/cm³ gilt es als das leichteste Halbmetall. Sein Schmelzpunkt liegt bei 2076 °C, was ihm eine außergewöhnliche thermische Stabilität verleiht. Es findet breite Anwendung in der Halbleiterdotierung, der Herstellung superharter Materialien, in Speziallegierungen sowie in der Luft- und Raumfahrt- und Rüstungsindustrie.
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  • 99.9% amorphous boron powder
    3N Amorphes Borpulver/Pellets CAS-Nr. 7440-42-8
    Amorphes Bor besitzt ein α-tetragonales Kristallsystem und erscheint als dunkelbraunes bis leicht gelbliches Pulver. Das von BoronHub eigenständig entwickelte, kundenspezifische amorphe Borpulver ist ein High-End-Produkt. Nach der Weiterverarbeitung erreicht es eine Reinheit von 99 % bis 99,9 %. Die Standard-Partikelgröße D50 beträgt ≤ 2 μm; submikronäres Pulver mit einer Feinheit von unter 500 nm ist auf Anfrage erhältlich.Es zeichnet sich durch eine ausgezeichnete chemische Aktivität aus: Die Oxidation beginnt bei 300 °C, und es ist bei 700 °C hochentzündlich. Es löst sich in konzentrierten Laugen unter Freisetzung von Wasserstoff. Es findet breite Anwendung in Feststoffraketentreibstoffen, nuklearen Abschirmungsstahl aus Bor, der Synthese von Seltenerdboriden, Airbag-Zündern und anderen Bereichen.
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