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Ob Sie kristallines 6N-Bor für die Halbleiterdotierung, maßgeschneiderte amorphe Borpulver für moderne Verbundwerkstoffe oder h-BN für das Wärmemanagement benötigen – unser technisches Vertriebsteam spricht Ihre Sprache.

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Angereichertes Bortrifluorid-11 (¹¹BF₃) für Halbleiter-Ionenimplantatoren

Angereichertes Bortrifluorid-11 (¹¹BF₃) mit ¹¹B-Anreicherung ≥ 99,9 % und Reinheit ≥ 99,999 % CAS-Nr. 20654-88-0
Angereichertes Bortrifluorid-11 (¹¹BF₃) ist ein Spezialgas für die Elektronik, das aus hochkonzentriertem ¹¹B-Ausgangsmaterial hergestellt wird und eine ¹¹B-Anreicherung von ≥ 99,9 % sowie eine Reinheit von ≥ 99,999 % aufweist. Als wichtiges Dotiergas für die p-leitende Ionenimplantation ist es unverzichtbar für die Herstellung von Halbleiterchips und Displaypanels der neuesten Generation.
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