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Elementares Bor
Borisotope
Bornitrid
Borcarbid
Seltene Erden Hexaboride
Übergangsmetallboride

Sie sind sich nicht sicher, welches Bormaterial für Ihren Prozess geeignet ist?

Ob Sie kristallines 6N-Bor für die Halbleiterdotierung, maßgeschneiderte amorphe Borpulver für moderne Verbundwerkstoffe oder h-BN für das Wärmemanagement benötigen – unser technisches Vertriebsteam spricht Ihre Sprache.

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NEUE PRODUKTE

Isotop ¹⁰B mit natürlicher Häufigkeit von 19,78 % CAS-Nr. 14798-12-0
Angereicherte Borsäure-10 mit ¹⁰B-Anreicherung ≥99 % und Reinheit ≥99,95 % CAS-Nr. 13813-79-1
Angereichertes Bortrifluorid-11 (¹¹BF₃) mit ¹¹B-Anreicherung ≥ 99,9 % und Reinheit ≥ 99,999 % CAS-Nr. 20654-88-0
Hexagonales Bornitrid (h-BN)-Pulver mit 99,5 % Reinheit, CAS-Nr. 10043-11-5
Kubisches Bornitrid (CBN) Einkristall und Mikropulver CAS-Nr. 10043-11-5
Hochreines Borcarbidpulver (B4C) CAS-Nr. 12069-32-8
Lanthanhexaborid (LaB₆)-Nanopartikel mit 3N-Reinheit, CAS-Nr. 12008-21-8
99,9 % Tantaldiborid (TaB₂), Cas-Nr. 12007-35-1

Angereichertes Bortrifluorid-11

Angereichertes Bortrifluorid-11 (¹¹BF₃) mit ¹¹B-Anreicherung ≥ 99,9 % und Reinheit ≥ 99,999 % CAS-Nr. 20654-88-0
Angereichertes Bortrifluorid-11 (¹¹BF₃) ist ein Spezialgas für die Elektronik, das aus hochkonzentriertem ¹¹B-Ausgangsmaterial hergestellt wird und eine ¹¹B-Anreicherung von ≥ 99,9 % sowie eine Reinheit von ≥ 99,999 % aufweist. Als wichtiges Dotiergas für die p-leitende Ionenimplantation ist es unverzichtbar für die Herstellung von Halbleiterchips und Displaypanels der neuesten Generation.
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