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Elementares Bor
Borisotope
Bornitrid
Borcarbid
Seltene Erden Hexaboride
Übergangsmetallboride

Sie sind sich nicht sicher, welches Bormaterial für Ihren Prozess geeignet ist?

Ob Sie kristallines 6N-Bor für die Halbleiterdotierung, maßgeschneiderte amorphe Borpulver für moderne Verbundwerkstoffe oder h-BN für das Wärmemanagement benötigen – unser technisches Vertriebsteam spricht Ihre Sprache.

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NEUE PRODUKTE

Isotop ¹⁰B mit natürlicher Häufigkeit von 19,78 % CAS-Nr. 14798-12-0
Angereicherte Borsäure-10 mit ¹⁰B-Anreicherung ≥99 % und Reinheit ≥99,95 % CAS-Nr. 13813-79-1
Angereichertes Bortrifluorid-11 (¹¹BF₃) mit ¹¹B-Anreicherung ≥ 99,9 % und Reinheit ≥ 99,999 % CAS-Nr. 20654-88-0
Hexagonales Bornitrid (h-BN)-Pulver mit 99,5 % Reinheit, CAS-Nr. 10043-11-5
Kubisches Bornitrid (CBN) Einkristall und Mikropulver CAS-Nr. 10043-11-5
Hochreines Borcarbidpulver (B4C) CAS-Nr. 12069-32-8
Lanthanhexaborid (LaB₆)-Nanopartikel mit 3N-Reinheit, CAS-Nr. 12008-21-8
99,9 % Tantaldiborid (TaB₂), Cas-Nr. 12007-35-1

Bor-11-Isotop mit natürlicher Häufigkeit von 80,22 % CAS-Nr. 14798-13-1

Bor-11-Isotop mit natürlicher Häufigkeit von 80,22 % CAS-Nr. 14798-13-1
¹¹B ist das zweite stabile Borisotop mit einer natürlichen Häufigkeit von ca. 80,22 %. Es besitzt praktisch keinen thermischen Neutronenabsorptionsquerschnitt und ist daher ein unverzichtbares Kernmaterial für Ionenimplantationsverfahren in Halbleitern. Unsere hochreinen, einstellbar angereicherten Varianten finden breite Anwendung in der Chipfertigung, bei Displaypanels und anderen Halbleiterbereichen.
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